單室真空燒結(jié)爐的設(shè)備用途、特點
該設(shè)備用于各種合金材料、器件、釹鐵硼磁性材料、釤鈷磁性材料、儲氫合金、活性與難熔金屬的真空燒結(jié)、時效等處理。該設(shè)備是在消化吸收國外設(shè)備優(yōu)點的基礎(chǔ)上,歷經(jīng)多次改進和完善,采用獨特的內(nèi)(外)部氣流循環(huán)方式和較大的真空機組,具有冷卻均勻、速度快、爐溫均勻性好、大抽氣量、溫度均勻可控、高真空度和無滲漏等特點。冷卻方式分為內(nèi)循環(huán)(RVSX)和外循環(huán)(RVS)兩種方式。
控制系統(tǒng)由PLC控制動作,智能溫控儀控制溫度,控制準(zhǔn)確,自動化程度高,可實現(xiàn)全自動/手動無擾動切換及異常報警功能,操作簡單可靠。
主要技術(shù)指標(biāo):
注:特殊規(guī)格可按用戶要求定制。